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点击返回 当前位置:首页 > 中图法 【TN3 半导体技术】 分类索引
  • 半导体技术初探 陈译 陈铖颖 吕兰兰
    • 半导体技术初探 陈译 陈铖颖 吕兰兰
    • 陈译陈铖颖吕兰兰/2025-7-1/ 机械工业出版社/定价:¥89
    • 本书内容从半导体相关基础知识入手,首先介绍半导体的物理特性,以及与其相关的晶体、原子、能带理论、空穴、掺杂等基本概念;再从晶体管入手,讲述晶体管的结构、工作原理、制备工艺,以及集成电路的相关知识;最后,落地到应用,介绍了半导体器件的使用和具体的应用电路,以及半导体器件参数和等效电路。由于半导体技术涉及材料、微电子、电子、物理、化学等专业,属于交叉学科,还涉及许多全新的领域,相关教材及参考书籍较少,适合初学者入门的书籍更少。为此,本书在编写过程中,通过提供详细的图表和丰富的实例来提高可读性与易懂性

    • ISBN:9787111783602
  • 氮化镓与碳化硅功率器件
    • 氮化镓与碳化硅功率器件
    • (意)毛里齐奥·迪保罗·埃米利奥(Maurizio Di Paolo Emilio)著/2025-7-1/ 化学工业出版社/定价:¥99
    • 本书内容以实用性为出发点,阐释了氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)半导体的原理、制造工艺、特性表征、市场现状以及针对关键应用的设计方法。针对GaN器件,从材料特性、芯片设计、制造工艺和外特性各方面深入分析,介绍了仿真手段和各种典型应用,最后还介绍了目前主流的技术和GaN公司。

    • ISBN:9787122477545
  • 半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲
    • 半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲
    • (日) 冈崎信次主编/2025-4-1/ 机械工业出版社/定价:¥99
    • 本书从光刻机到下一代光刻技术,从光刻胶材料到多重图形化技术,全面剖析每一步技术革新如何推动半导体产业迈向纳米级精细加工的新高度。本书共6篇19章,内容包括光刻机、激光光源、掩膜技术、下一代光刻技术发展趋势、EUV光刻技术、纳米压印光刻技术、电子束刻蚀技术与设备开发、定向自组装(DSA)技术、光刻胶材料的发展趋势、化学增幅型光刻胶材料技术、含金属光刻胶材料技术、多重图形化技术趋势、多重图形化中的沉积和刻蚀技术、CDSEM技术、光散射测量技术、扫描探针显微镜技术、基于小角X射线散射的尺寸和形状测量技

    • ISBN:9787111777731
  • 半导体存储与系统
    • 半导体存储与系统
    • (意)安德烈·雷达利(AndreaRedaelli)等著/2025-3-1/ 机械工业出版社/定价:¥129
    • 本书提供了在各个工艺及系统层次的半导体存储器现状的全面概述。在介绍了市场趋势和存储应用之后,本书重点介绍了各种主流技术,详述了它们的现状、挑战和机遇,并特别关注了可微缩途径。这些述及的技术包括静态随机存取存储器(SRAM)、动态随机存取存储器(DRAM)、非易失性存储器(NVM)和NAND闪存。本书还提及了嵌入式存储器以及存储级内存(SCM)的各项必备条件和系统级需求。每一章都涵盖了物理运行机制、制造技术和可微缩性的主要挑战因素。最后,本书回顾了SCM的新兴趋势,主要关注基于相变的存储技术的优势

    • ISBN:9787111777366
  • 硅基氮化镓外延材料与芯片
    • 硅基氮化镓外延材料与芯片
    • 李国强/2025-1-1/ 科学出版社/定价:¥158
    • 本书共8章。其中,第1章介绍Si基GaN材料与芯片的研究意义,着重分析了GaN材料的性质和Si基GaN外延材料与芯片制备的发展历程。第2章从Si基GaN材料的外延生长机理出发,依次介绍了GaN薄膜、零维GaN量子点、一维GaN纳米线和二维GaN生长所面临的技术难点及对应的生长技术调控手段。第3~7章依次介绍了Si基GaNLED材料与芯片、Si基GaN高电子迁移率晶体管、Si基GaN肖特基二极管、Si基GaN光电探测芯片和Si基GaN光电解水芯片的工作原理、技术瓶颈、制备工艺以及芯片性能调控技术,

    • ISBN:9787030809582
  • 芯片那些事儿:半导体如何改变世界
    • 芯片那些事儿:半导体如何改变世界
    • 孙洪文 编著/2025-1-1/ 化学工业出版社/定价:¥69
    • 本书将半导体技术60多年的发展史浓缩在有限的篇幅里,通过简明扼要的语言为我们讲述关于芯片的那些事儿。本书主要围绕“史前文明”——电子管时代、“新石器时代”——晶体管时代、“战国时代”——中小规模集成电路时代、“大一统秦朝”——大规模和超大规模集成电路时代、“大唐盛世”——特大规模和巨大规模集成电路时代、“走进新时代”——移动互联时代、“拥抱未来”——半导体科技的展望,对半导体领域涉及的技术发展情况、关键的人和事件等进行了描述,对未来的产业发展进行了展望,为我们勾勒了一幅半导体技术也是人类社会发展

    • ISBN:9787122455291
  • 碳化硅功率模块设计
    • 碳化硅功率模块设计
    • (日)阿尔贝托·卡斯特拉齐(AlbertoCastellazzi)等著/2024-12-1/ 机械工业出版社/定价:¥119
    • 本书详细介绍了多芯片SiCMOSFET功率模块设计所面临的物理挑战及相应的工程解决方案,主要内容包括多芯片功率模块、功率模块设计及应用、功率模块优化设计、功率模块寿命评估方法、耐高温功率模块、功率模块先进评估技术、功率模块退化监测技术、功率模块先进热管理方案、功率模块新兴的封装技术等。本书所有章节均旨在提供关于多芯片SiCMOSFET功率模块定制开发相关的系统性指导,兼具理论价值和实际应用价值。

    • ISBN:9787111766544
  •  半导体工艺可靠性 [中]甘正浩 [美]黄威森 [美]刘俊杰
    • 半导体工艺可靠性 [中]甘正浩 [美]黄威森 [美]刘俊杰
    • [中]甘正浩 [美]黄威森 [美]刘俊杰/2024-10-1/ 机械工业出版社/定价:¥199
    • 半导体制造作为微电子与集成电路行业中非常重要的环节,其工艺可靠性是决定芯片性能的关键。本书详细描述和分析了半导体器件制造中的可靠性和认定,并讨论了基本的物理和理论。本书涵盖了初始规范定义、测试结构设计、测试结构数据分析,以及工艺的最终认定,是一本实用的、全面的指南,提供了验证前端器件和后端互连的测试结构设计的实际范例。本书适合从事半导体制造及可靠性方面的工程师与研究人员阅读,也可作为高等院校微电子等相关专业高年级本科生和研究生的教材和参考书。

    • ISBN:9787111764946
  • 氮化镓电子器件热管理
    • 氮化镓电子器件热管理
    • (美)马尔科·J.塔德尔(MarkoJ.Tadjer),(美)特拉维斯·J.安德森(TravisJ.Anderson)主编/2024-9-1/ 机械工业出版社/定价:¥168
    • 本书概述了业界前沿研究者所采取的技术方法,以及他们所面临的挑战和在该领域所取得的进展。具体内容包括宽禁带半导体器件中的热问题、氮化镓(GaN)及相关材料的第一性原理热输运建模、多晶金刚石从介观尺度到纳米尺度的热输运、固体界面热输运基本理论、氮化镓界面热导上限的预测和测量、AlGaN/GaNHEMT器件物理与电热建模、氮化镓器件中热特性建模、AlGaN/GaNHEMT器件级建模仿真、基于电学法的热表征技术——栅电阻测温法、超晶格城堡形场效应晶体管的热特性、用于氮化镓器件高分辨率热成像的瞬态热反射率

    • ISBN:9787111764557
  •  LED驱动与应用电路设计及案例分析 周党培
    • LED驱动与应用电路设计及案例分析 周党培
    • 周党培/2024-9-1/ 机械工业出版社/定价:¥69
    • 《LED驱动与应用电路设计及案例分析》针对电子电路应用设计实务中的痛点和难点,通过案例举一反三,使读者能快速掌握分析和解决问题的方法和思路。全书的编排设计始终遵循以读者为中心、成果导向和持续改进的理念,以培养应用型的工程技术人员为目标,贯穿于整个电子产品设计的全过程。全书采用案例式教学,通过问题引导的方式帮助读者积累知识和经验,启发创新性思维。此外,本书还对标工程认证要求,注重对过程和结果的评价,根据达成目标设计了学习效果评价的内容和标准,可供读者对学习成果进行自查。本书基于OBE理念和工程认证

    • ISBN:9787111758549
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