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点击返回 当前位置:首页 > 中图法 【TN30 一般性问题】 分类索引
  •  宽禁带功率半导体封装 材料、元件和可靠性 菅沼克昭
    • 宽禁带功率半导体封装 材料、元件和可靠性 菅沼克昭
    • [日]菅沼克昭(Katsuaki Suganuma)/2024-9-1/ 机械工业出版社/定价:¥119
    • 本书是国外学者们对宽禁带半导体封装技术和趋势的及时总结。首先,对宽禁带功率器件的发展趋势做了总结和预演判断,讲述宽禁带功率半导体的基本原理和特性,包括其独特的物理和化学属性,以及它们在极端环境下的潜在优势。接着介绍封装材料的选择和特性,分别就互连技术和衬底展开论述,同时,介绍了磁性材料,并对不同材料结构的热性能,以及冷却技术和散热器设计进行了介绍。然后,考虑到功率器件的质量必须通过各种测试和可靠性验证方法来评估,还介绍了瞬态热测试的原理和方法,同时阐述了各种可靠性测试的机理和选择动机。最后,就计

    • ISBN:9787111763178
  • 半导体存储器件与电路
    • 半导体存储器件与电路
    • (美)余诗孟著/2024-8-1/ 机械工业出版社/定价:¥89
    • 本书对半导体存储器技术进行了全面综合的介绍,覆盖了从底层的器件及单元结构到顶层的阵列设计,且重点介绍了近些年的工艺节点缩小趋势和最前沿的技术。本书第1部分讨论了主流的半导体存储器技术,第2部分讨论了多种新型的存储器技术,这些技术都有潜力能够改变现有的存储层级,同时也介绍了存储器技术在机器学习或深度学习中的新型应用。

    • ISBN:9787111762645
  • 超晶格真随机数产生技术
    • 超晶格真随机数产生技术
    • 刘延飞[等]著/2024-5-1/ 国防工业出版社/定价:¥80
    • 本书首次利用半导体超晶格作为真随机数发生器的混沌熵源,针对超晶格作为混沌熵源时所涉及的器件设计、混沌信号分析、随机数提取等问题进行研究,从理论上对超晶格混沌产生自激振荡的机理进行了研究,从实践上实现了基于超晶格混沌熵源的随机数发生器设计及产生真随机数的评估。

    • ISBN:9787118133042
  • 图解入门——半导体工作原理精讲 [日]西久保靖彦
    • 图解入门——半导体工作原理精讲 [日]西久保靖彦
    • [日]西久保靖彦/2024-4-1/ 机械工业出版社/定价:¥99
    • 这是一本介绍半导体工作原理的入门类读物。全书共分4章,包括第1章的半导体的作用、类型、形状、制造方式、产业形态;第2章的理解导体、绝缘体和半导体的区别,以及P型半导体和N型半导体的特性;第3章的PN结、双极型晶体管、MOS晶体管、CMOS等;第4章涵盖了初学者和行业人士应该知道的技术和行业词汇表。本书适合想学习半导体的初学者阅读,也可以作为相关企事业单位人员的科普读物。

    • ISBN:9787111751670
  • 集成电路与等离子体装备
    • 集成电路与等离子体装备
    • /2024-4-1/ 科学出版社/定价:¥168
    • 暂无

    • ISBN:9787030775467
  • 弹性半导体的多场耦合理论与应用
    • 弹性半导体的多场耦合理论与应用
    • 金峰,屈毅林著/2024-2-1/ 科学出版社/定价:¥165
    • 弹性半导体结构的机械变形-电场-热场-载流子分布等物理场的耦合分析十分复杂。《弹性半导体的多场耦合理论与应用》基于连续介质力学、连续介质热力学及静电学的基本原理,建立了半导体的连续介质物理模型。以该模型为基础,采用材料力学及板壳力学的建模方法系统地研究了典型弹性半导体结构中的多场耦合问题,包括一维和二维压电半导体结构(挠*电半导体结构)在静态加载、失稳、振动时的变形及载流子分布等。作为该理论模型的应用,研究了压电半导体材料的变形传感及机械力对电子电路中电流的调控。

    • ISBN:9787030773562
  • 半导体干法刻蚀技术
    • 半导体干法刻蚀技术
    • (日)野尻一男著/2024-1-1/ 机械工业出版社/定价:¥89
    • 本书不仅介绍了半导体器件中所涉及材料的刻蚀工艺,而且对每种材料的关键刻蚀参数、对应的等离子体源和刻蚀气体化学物质进行了详细解释。本书讨论了具体器件制造流程中涉及的干法刻蚀技术,介绍了半导体厂商实际使用的刻蚀设备的类型和等离子体产生机理,例如电容耦合型等离子体、磁控反应离子刻蚀、电子回旋共振等离子体和电感耦合型等离子体,并介绍了原子层沉积等新型刻蚀技术。

    • ISBN:9787111742029
  • 半导体制造过程的批间控制和性能监控
    • 半导体制造过程的批间控制和性能监控
    • 郑英,王妍,凌丹/2023-11-1/ 科学出版社/定价:¥128
    • 本书基于当前半导体行业制造过程中存在的问题,介绍了多种改进的批间控制和过程监控算法及其性能。第1章为半导体制造过程概述,包括国内外研究现状和发展趋势。第2、3章介绍批间控制、控制性能和制造过程监控。第4~7章讨论机台干扰、故障、度量时延对系统性能的影响,提出多种批间控制衍生算法,包括双产品制程的EWMA批间控制算法、变折扣因子EWMA批间控制算法、偏移补偿批间控制算法、基于T-S模糊模型的批间控制算法。第8~11章介绍半导体制造过程的性能和过程监控方法,包括:设计模型评价指标进行建模质量评估;提

    • ISBN:9787030708175
  • 多尺度模拟方法在半导体材料位移损伤研究中的应用
    • 多尺度模拟方法在半导体材料位移损伤研究中的应用
    • 贺朝会,唐杜,臧航,邓亦凡,田赏/2023-10-1/ 科学出版社/定价:¥150
    • 本书系统介绍了用于材料位移损伤研究的多尺度模拟方法,包括辐射与材料相互作用模拟方法、分子动力学方法、动力学蒙特卡罗方法、第一性原理方法、器件电学性能模拟方法等,模拟尺寸从原子尺度的10.10m到百纳米,时间从亚皮秒量级到106s,并给出了多尺度模拟方法在硅、砷化镓、碳化硅、氮化镓材料位移损伤研究中的应用,揭示了典型半导体材料的位移损伤机理和规律,在核技术和辐射物理学科的发展、位移损伤效应研究、人才培养等方面具有重要的学术意义和应用价值。

    • ISBN:9787030764690
  • 高k栅介质材料与器件集成
    • 高k栅介质材料与器件集成
    • 何刚/2023-8-1/ 清华大学出版社/定价:¥79
    • 本书旨在向材料及微电子集成相关专业的高年级本科生、研究生及从事材料与器件集成行业的科研人员介绍栅介质材料制备与相关器件集成的专业技术。本书共10章,包括了集成电路的发展趋势及后摩尔时代的器件挑战,栅介质材料的基本概念及物理知识储备,栅介质材料的基本制备技术及表征方法;着重介绍了栅介质材料在不同器件中的集成应用,如高κ与金属栅、场效应晶体管器件、薄膜晶体管器件、存储器件及神经形态器件等。本书包含栅介质材料的基本制备技术,同时突出了栅介质材料在器件应用中的先进性和前沿性,反映了后摩尔时代器件集成的*

    • ISBN:9787302639145
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